KLA-Tencor 公司宣布推出Teron SL650，該產(chǎn)品是專為集成電路晶圓廠提供的一種新型光罩質(zhì)量控制解決方案，支持 20nm 及更小設(shè)計(jì)節(jié)點(diǎn)。Teron SL650 采用 193nm光源及多種 STARlight 光學(xué)技術(shù)，提供必要的靈敏度和靈活性，以評(píng)估新光罩的質(zhì)量，監(jiān)控光罩退化，并檢測(cè)影響成品率的光罩缺陷，例如在有圖案區(qū)和無(wú)圖案區(qū)的晶體增長(zhǎng)或污染。此外，Teron SL650 擁有業(yè)界領(lǐng)先的產(chǎn)能，可支持更快的生產(chǎn)周期，以滿足檢驗(yàn)更多數(shù)量的先進(jìn)技術(shù)光罩的需要。

KLA-Tencor 光罩產(chǎn)品事業(yè)部 (RAPID) 副總裁兼總經(jīng)理熊亞霖博士稱：“對(duì)于集成電路制造商而言，了解光罩狀況是圖案成像工藝控制的核心要素，因?yàn)楣庹仲|(zhì)量變化可能會(huì)對(duì)在印的每一片晶圓造成毀滅性影響。針對(duì) Teron SL650，我們的團(tuán)隊(duì)在適合集成電路晶圓廠的一個(gè)緊湊平臺(tái)上采用了最先進(jìn)的光罩檢測(cè)技術(shù)，生產(chǎn)出一款具有先進(jìn)靈敏度、高產(chǎn)能和可擴(kuò)展至未來(lái)節(jié)點(diǎn)能力的光罩質(zhì)量控制系統(tǒng)。通過(guò)監(jiān)測(cè)新光罩的關(guān)鍵缺陷，并在生產(chǎn)期間識(shí)別掩模圖案的累積缺陷和變化，我們的Teron SL650 能夠幫助芯片制造商保證設(shè)備成品率、性能和生產(chǎn)周期。”

Teron SL650 利用STARlightSD 和STARlightMD 創(chuàng)造出更勝一籌的缺陷捕獲率，以及分別在單芯片和多芯片光罩上的全面檢測(cè)，藉此支持晶圓廠內(nèi)各種類型的光罩。芯片制造商還可以使用創(chuàng)新型 STARlightMaps 技術(shù)來(lái)追蹤光罩隨著時(shí)間的退化，找出臨界尺寸 (CD)、薄膜厚度、抗反射層以及光罩上的其他變量的變化——這些變化會(huì)影響光罩質(zhì)量從而影響光刻工藝窗口或圖案印刷。此外，Teron SL650 與超紫外線 (EUV) 檢測(cè)技術(shù)兼容，能夠與集成電路制造商及早協(xié)作，滿足晶圓廠對(duì) EUV 光罩的要求。

多臺(tái)Teron SL650 光罩檢測(cè)系統(tǒng)已在世界各地的代工廠、邏輯電路與存儲(chǔ)器生產(chǎn)廠安裝，用于新光罩的質(zhì)量檢測(cè)，以及先進(jìn)集成電路制造中所用光罩的重新檢驗(yàn)。為了保持高性能和高產(chǎn)能，滿足最先進(jìn)的生產(chǎn)需要，Teron SL650 系統(tǒng)由KLA-Tencor 的全球綜合服務(wù)網(wǎng)絡(luò)提供支持。